BOSAN

半導体製造用マルチプロセス圧縮空気供給

半導体材料および装置の分野でのリーディング企業として、当社は単結晶シリコンの成長やウェーハ切断などの超精密プロセスにおける圧縮空気の清浄度および圧力の安定性に対して厳しいプロセス要件を持っています。圧縮空気源の品質は、半導体材料の純度やデバイスの性能に直接影響します。

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半導体材料および装置の分野でのリーディング企業として、当社は単結晶シリコンの成長やウェーハ切断などの超精密プロセスにおける圧縮空気の清浄度および圧力の安定性に対して厳しいプロセス要件を持っています。圧縮空気源の品質は、半導体材料の純度やデバイスの性能に直接影響します。

プロジェクトの実施と運営結果

半導体材料および装置の分野でのリーディング企業として、当社は単結晶シリコンの成長やウェーハ切断などの超精密プロセスにおける圧縮空気の清浄度および圧力の安定性に対して厳しいプロセス要件を持っています。圧縮空気源の品質は、半導体材料の純度やデバイスの性能に直接影響します。

本プロジェクトでは、BOSAN スクリューコンプレッサー LD PMII と BDS-50 を各一台、計二台使用し、空圧制御と補助設備に圧縮空気を供給します。空気処理設備で空圧システムの清浄度要件に対応します。この空気供給は、半導体製造で使用する専用プロセスガスとは区別されます。

設備が稼働した後、企業の単結晶シリコンの収率は効果的に向上し、圧縮空気供給システムのエネルギー消費も削減され、高級半導体材料の量産に確固たる支援を提供しました。

この数値は本プロジェクトおよびその特定の運用条件に適用されるものであり、他のプロジェクトや製品シリーズ全体の保証された結果ではありません。構成と性能は、プロジェクトの技術合意に従います。

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